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시장 조사 자료 (Market Report)-영문판
시장 조사 자료-일본어판
시장 조사 자료-일본어판 > 반도체/전자부품 (Semiconductors / Electronics)
10nm 이하 반도체 공정 재료 / 기​​술 전망 조사- 10nm 이하 반도체 기술을 철저 조사
10nm以下の半導体プロセス材料/技術の展望調査
발   행   사 : 후지키메라 저       자 :
체         제 : 150 페이지 발  행  일 : 2016-07-26
ISBN/CODE : 수       량 :  
¥500,000 -> 6,000,000원 Hard Copy Version

- 조사의 배경 -
과거 반도체 관련 기술의 조사에서 포토 레지스트, CMP (Chemical Mechanical Polishing)를 대상으로했다. 원료 및 공급망 등 블랙 박스였던 부분이 명확하게 호평을 얻었다. 반도체 공정은 10nm라는 미지의 영역에 발을 踏み入れよ 노력하고 있지만 아직 해결되지 않은 문제점도 많다. 향후 10nm 프로세스에 병목 리소그래피 관련 재료, CMP 관련 재료, 세정 약액에 대한 증가하는 요구에 따라 본 조사를 기획했다.
현재 반도체 시장은 로직, NAND, DRAM의 세 시장이 중심이되어이 세 시장에서 살아남 장치 메이커도 조리개 연재 해오고있다. 이들 업체의 대표적인 장치의 재료 구성과 주요 재료 메이커의 상황을 정리한다.
반도체 구조에서 게이트 형성 과정은 가장 중요하다고 생각하기 때문에 최첨단 기술을 응용하여 제조된다. 따라서 게이트에 어떤 소재와 구조를 채용하거나에서 재료가 크게 달라진다. 따라서 게이트의 트렌드를 파악한다.
 
- 조사의 포인트 -
10nm까지의 프로세스와 10nm 이하 공정에서의 비교
레드 브릭에 대응하는 기술
주요 장치 제조업체의 레이어 수와 구성
새로운 노광 방식의 도입 (EUV 기술)
첨단 프로세스를 지원 재료 기술 (포토 마스크의 대응 기술, 세척 관련 기술)
게이트 재료와 구조의 변화 (게이트 올 어라운드과 Ge 반도체 게이트 등)
3D Xpoint 등의 새로운 컨셉 메모리
 
- 출력 이미지 -
1. 노광 기술 로드맵
10nm 이하 반도체 공정 재료 / 기​​술 전망 조사 아웃풋 이미지 (1. 노광 기술 로드맵)
음영 구조는 새롭다 사용하는 재료는 거의 변화하지 않는다.
2. 주요 장치 제조업체의 레이어 구성
10nm 이하 반도체 공정 재료 / 기​​술 전망 조사 아웃풋 이미지 (2. 주요 장치 제조업체의 레이어 구성)
DP : 더블 패터닝 공정 
- 조사 대상 -
■ 조사 대상 제품과 대상 기업
10nm 이하 반도체 공정 재료 / 기​​술 전망 조사 조사 대상 제품과 대상 기업 이미지
레지스트 도포 포토 마스크 제조 업체 다이 니혼 인쇄, 활판 인쇄, HOYA, PHOTORONICS, PKL
반제품 제조 HOYA, 신에츠 화학 공업, S & S TECH, ULCOAT
노출 노광 (포토 레지스트) JSR, 신에츠 화학 공업, 토쿄 오카 공업, 스미토모 화학, FFEM, Dow Chemical, Kumho Petrochemical, DONGJIN SEMICHEM 등
다층막 / 반사 방지막 Samsung Cheil Industries, 신에츠 화학 공업, JSR, 닛산 화학 공업, Brewer Science
구성 재료 메이커 ■ ArF :
丸善石油化学, 미쓰비시, SEOUL FINE TECH, Miwon Commercial 오사카 유기 쿠라 레, 다이 셀, ENF Technologies ■ KrF : DuPont, 일본 조들,丸善石油化学,北興화학, 도소 · 화인 켐, Donjin Semichem



현상 현상액 트크 야마, Sachem 타마 화학, 토쿄 오카 공업
구성 재료 메이커 위 제조사에서 만든
에칭 / 앗싱 폴리머 제거 인테구리스, DuPont, Air products and Chemical, 미쓰비시 가스 화학, 토쿄 오카 공업 등
구성 재료 메이커 다이 킨 공업 스텔라 케미 파, 니혼 쇼 쿠바이
레지스트 박리 레지스트 박리 Dupont, 인테구리스, 토쿄 오카 공업, 칸토 화학
구성 재료 메이커 SPM (황산 오버 물), 유기 용제 계 (아민, 아세톤) 등 중국 제조 업체
CMP CMP 슬러리 Cabot Microelectronics, 히타치 화성, 닛타 하스, 후지미 코퍼 레이 티드
연마 업체 Cabot Super Metal, DuPont, Evinik Industries, Nalco, 후소 화학 공업, Rhodia Electronics
세척 CMP 후 세정 Air Products and Chemicals 와코 순 약, 미쓰비시 화학, 칸토 화학
구성 재료 메이커 DHF (희 불산) APM (암모니아 過水) 알칼리 용액 + 킬레이트 + 계면 활성제 제조
 


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